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http://hdl.handle.net/10773/2653
Título: | Caracterização de guias de ondas por elipsometria |
Autor: | Fernandes, Vasco R. |
Orientador: | André, Maria Rute de Amorim e Sá Ferreira André, Paulo Sérgio de Brito |
Palavras-chave: | Engenharia física Polarimetria Óptica integrada Guias de ondas ópticas Materiais híbridos orgânico-inorgânico |
Data de Defesa: | 2010 |
Editora: | Universidade de Aveiro |
Resumo: | O presente trabalho reporta a aplicação a técnica de elipsometria à caracterização
de dispositivos para óptica integrada, em particular guias de onda
planares e em canal fabricados por escrita directa usando radiação laser
UV, preparados com materiais híbridos orgânicos-inorgânicos modificados
com tetra-propóxido de zircónio. É apresentada a aplicação de optimização
multi-objectivo na análise de dados elipsométricos dos guias de onda
planares em substrato de sílica em silício. Efectuando a comparação entre
um algoritmo genético multi-objectivo e algoritmo genético simples, os resultados
indicam que o desempenho do método sugerido é superior. Para
os guias em canal o incremento no índice de refracção no canal, relativamente
ao restante filme, devido à exposição UV, foi estimado em 0,0003,
demonstrando bom acordo com valores reportados na literatura. The present work focus on the application of the technique of ellipsometry to the characterization of integrated optical devices, particularly planar waveguides and channel waveguides fabricated by direct writing using UV laser radiation, prepared with organic-inorganic hybrid materials modified with tetra-propoxide zirconium. The application of multi-objective optimization in ellipsometric data analysis of planar waveguides in a silica on silicon substrate is presented. By making a comparison between a multi-objective genetic algorithm and genetic algorithm simple, the results indicate that the performance of the suggested method is superior. For the channel waveguides the increase in the refractive index of the channel due to UV exposure, relatively to the rest of the film, was estimated to be 0.0003, showing good agreement with values reported in the literature. |
Descrição: | Mestrado em Engenharia Física |
URI: | http://hdl.handle.net/10773/2653 |
Aparece nas coleções: | UA - Dissertações de mestrado DFis - Dissertações de mestrado |
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