Optimização do sistema MPCVD para deposição de filmes de diamante

Abstract

O presente trabalho teve como principal objectivo, o estudo e montagem de um reactor, para deposição de filmes de diamante a partir da fase vapor, activado por um gerador de microondas. Do Inglês, microwave plasmaassisted chemical vapour deposition (MPCVD). Numa primeira fase do estudo, foi necessária a pesquisa e obtenção de conhecimento na área do CVD, dos diferentes tipos de tecnologia existentes bem como um estudo dos mecanismos físico-químicos de crescimento de filmes de diamante. Numa segunda fase, paralelamente acompanhada de pesquisa teórica, foi efectuada a montagem física do sistema, em que foram necessárias constantes limpezas, reparações e compras de componentes. Por fim, o sistema foi testado nos parâmetros possíveis, não tendo sido criadas amostras experimentais. Foram ainda calculadas optimizações a nível mecânico, de vácuo, atmosférico e térmico.

This work had as main purpose, the study, installation and optimization of a microwave plasma-assisted reactor for chemical deposition of films based on carbon-phase vapor (MPCVD). In the first phase of the study, it was necessary to obtain knowledge and research in the area of CVD, the different types of existing technology as well as a study of the physicochemical mechanisms of diamond film growth. In a second phase, accompanied by parallel theoretical research, the system was physically assembled, what required constant cleaning, repairs and purchases of components. Finally, the system was tested at the possible parameters in spite that there were not created any experimental samples. Mechanical, vacuum, atmospheric and thermal optimizations were also calculated.