Crescimento epitaxial a 2+1 dimensões

Abstract

0 presente trabalho assenta no desenvolvimento e estudo computacional de propriedades de crescimento e superfície de um modelo simplificado de crescimento por deposição aleatória, a 2+1 dimensões, tendo em conta efeitos de difusão na superfície para próximos vizinhos. O modelo desenvolvido pretende simular os processos de reestruturação de superfície, que podem ocorrer na sedimentação de pequenas partículas (esferas rígidas) sob a influência de um campo externo ( Campo Gravítico). Foi desenvolvido sofnuare para proceder a um conjunto variado de simulações, procurando, por esta via, analisar a forma como se dá o crescimento, calculando os diferentes valores dos expoentes de crescimento, rugosidade e dinâmico, e comparando-os com valores obtidos anteriormente por outros autores. Fez-se variar diversas condições de deposição, desde a forma do substrato inicial, fazendo simulações para substratos assentes em bases quadradas e em bases hexagonais, com e sem rugosidade inicial, até simulações para mais de um tipo de partículas com diferentes concentrações relativas . Verifica-se que, muito embora o 'núcleo' da deposição não demonstre propriedades de fractal, a espessura da banda de superfície de crescimento - supeficie activa- exibe um escalonamento não trivial, em função da altura média de crescimento e do tamanho da célula-base, sobre a qual se gera todo o processo, revelando, desta forma, propriedades que são próprias do crescimento de fractais.