Optimização do processo de revestimento à base de carbono de um reactor HFCVD

Abstract

Este trabalho visa a caracterização e optimização das condições de deposição química em fase de vapor de filmes de diamante pelo processo de filamento quente através do estudo da influência de variáveis operatórias e condições do substrato. A primeira fase deste trabalho é dedicada ao estudo e caracterização de um reactor novo de HFCVD. São estudadas as propriedades e variáveis envolvidas durante o processo de deposição em fase de vapor por filamento quente e são implementadas soluções de instrumentação para um registo o mais exacto possível. A segunda fase deste trabalho tem como objectivo fazer o estudo do crescimento de diamante em substratos de WC-Co, com diferentes parâmetros de crescimento, nomeadamente a pressão, temperatura do substrato e mistura gasosa. Os filmes crescidos foram, depois, analisados recorrendo a técnicas de microscopia electrónica de varrimento (SEM) e espectroscopia Raman.

ABSTRACT: This work serves the purpose of characterization and optimization, of a hot filament chemical vapor deposition reactor, for the deposition of diamond films. The study will be based on the variation of the conditions of the process. The first phase of this work is dedicated to the study and characterization of the behavior of a new HFCVD reactor. The properties and the variables evolved during the process of deposition will be studied. The objective of the second phase of this work, is the study of the influence of the variables of deposition in the morphology of deposited films.