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 Projecto e desenvolvimento de reactor HFCVD para revestimentos à base de carbono
Please use this identifier to cite or link to this item http://hdl.handle.net/10773/2436

title: Projecto e desenvolvimento de reactor HFCVD para revestimentos à base de carbono
authors: Santos, José Augusto Machado Figueiredo dos
advisors: Cabral, Gil
Borges, Abílio
keywords: Engenharia mecânica
Deposição química de vapor
Filmes de carbono
Filmes de diamante
Reactores químicos
issue date: 2007
publisher: Universidade de Aveiro
abstract: O presente trabalho teve como objectivo fundamental o projecto e construção de um reactor para deposição química de filmes à base de carbono em fase vapor, bem como o desenvolvimento do respectivo sistema de controlo e monitorização. Para efeitos, foi necessário, numa primeira fase de trabalho, realizar um estudo aprofundado sobre os mecanismos físico-químicos de crescimento de filmes de diamante segundo a técnica referida que serviu de base ao dimensionamento do reactor. O projecto do reactor foi orientado de modo a permitir atingir um produto final com quatro características fundamentais: flexibilidade na execução de experiências, fiabilidade dos resultados obtidos, fácil manutenção e baixo custo. Do ponto de vista técnico, o reactor caracteriza-se pela sua constituição modular, permitindo deposições bidimensionais e tridimensionais. Por fim, o sistema de controlo e monitorização consiste numa ferramenta informática, que permite a interligação de diferentes componentes do reactor, seguindo uma hierarquia de operações previamente definida. O sistema foi testado através da deposição de filmes de diamante em substratos de silício, tendo-se constatado que os objectivos traçados foram integralmente atingidos. ABSTRACT: This work has fundamental objective the project and the construction of a reactor for chemical deposition of films based on carbon-phase vapour, and the development of its system of control and monitoring. For purposes, it was necessary, in a first phase of work, perform a detailed study of the physical and chemical mechanisms of growth of films of diamond using the technique said that formed the basis for design of the reactor. The project of the reactor was oriented to allow achieve a final product with four key characteristics: flexibility in the implementation of experience, reliability of the results obtained, easy maintenance and low cost. From a technical point of view, the reactor is characterized by its constitution modular, allowing deposition two-dimensional and three-dimensional. Finally, the system of control and monitoring is based in a informatics tool,, which allows the interconnection of different components of the reactor, following a hierarchy of operations previously defined. The system was tested by deposition of films of diamond on silicon substrates, and has been found that the objectives set have been fully achieved.
description: Mestrado em Engenharia Mecânica
URI: http://hdl.handle.net/10773/2436
appears in collectionsMEC - Dissertações de mestrado
UA - Dissertações de mestrado

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